Questo avanzamento rappresenta un passo importante per la Cina nel tentativo di affrontare le restrizioni imposte dagli Stati Uniti nel settore dei semiconduttori. Le nuove macchine, pur non essendo ancora pronte per il mercato, dimostrano la capacità della Cina di sviluppare tecnologie chiave internamente.
Dettagli tecnici e confronto con i leader di mercato
Il governo cinese sta promuovendo due macchine litografiche prodotte a livello nazionale:- Una macchina DUV che opera a una lunghezza d'onda di 193 nm con una risoluzione inferiore a 65 nm
- Un'altra che funziona a 248 nm con una risoluzione di 110 nm
Nonostante questi progressi, le macchine cinesi rimangono indietro rispetto ai sistemi più avanzati sul mercato, come quelli prodotti dalla società olandese ASML. Le macchine DUV più avanzate di ASML possono operare a risoluzioni inferiori a 38 nm e sono alla base della litografia ultravioletta estrema (EUV).
Strategia cinese di fronte alle restrizioni commerciali
In risposta alle crescenti restrizioni commerciali imposte dagli Stati Uniti e dai loro alleati, la Cina ha adottato una strategia a due fronti:
- Sviluppo interno: Investimento in ricerca e sviluppo per creare tecnologie proprietarie
- Aumento delle importazioni: Nei mesi di giugno e luglio 2023, le importazioni cinesi di attrezzature per microchip sono aumentate del 70% rispetto all'anno precedente
Questo approccio mira a garantire l'accesso alle tecnologie essenziali prima che possano essere imposte ulteriori restrizioni, evidenziando l'importanza strategica che la Cina attribuisce al settore dei semiconduttori per il suo sviluppo tecnologico ed economico.
